半導體廢水處理工藝
1.項目概述
本文以浙江某半導體電子產(chǎn)業(yè)廢水處理工程為例，系統(tǒng)介紹了整體處理工藝流程和設備參數(shù)的選擇。進水水質(zhì)和排放標準見下圖。
2.生產(chǎn)過程說明
廢水分為三種:酸堿廢水、含氟廢水和研磨廢水。具體處理流程如下:
2.1酸堿廢水處理工藝
酸堿廢水主要是含酸和含堿的廢水。根據(jù)濃度的不同，常用的工藝主要有pH中和法和濃縮法。根據(jù)本項目酸堿廢水的pH范圍和工程造價，本工藝采用pH中和法。
主要過程如下:酸堿廢水進入酸堿廢水調(diào)節(jié)池，曝氣混合均勻后，由水泵提升進入pH中和池進行三級酸堿加藥反應。調(diào)節(jié)pH至中性，出水進入排放池，達到排放標準。
2.2含氟廢水處理工藝
吸附法和化學加藥混凝法是處理含氟廢水的常用方法。本項目進水氟離子濃度為300mg/L，采用混凝沉淀法。另配一套活性氧化鋁吸附裝置。如果不達標，經(jīng)氧化鋁吸附后排放。
主要工藝:含氟廢水進入含氟調(diào)節(jié)池曝氣混合。然后用提升泵提升至含氟反應罐。罐內(nèi)有一個pH計，控制加藥泵的酸堿加入量，調(diào)節(jié)pH值到7 ~ 9，同時加入CaCl2反應生成沉淀。然后依次流入混凝池和絮凝池，通過加藥泵分別投加PAC和PAM，進一步混凝沉淀。
2.3研磨廢水處理工藝
研磨廢水的主要成分是硅粉等無機懸浮物，SS較高。因此，通常采用化學混凝沉淀法作為預處理。
主要工藝流程如下:研磨廢水進入研磨廢水調(diào)節(jié)池，曝氣攪拌后，由水泵提升至反應池，在池內(nèi)調(diào)節(jié)pH值，投加PAC進行混凝沉淀，然后自流進入絮凝池，池內(nèi)投加PAM，絮凝后進入沉淀池。上清液再次進入生化池。
3.主要結構和設計參數(shù)
3.1酸堿廢水系統(tǒng)
3.1.1酸堿調(diào)節(jié)池
座位1，設計規(guī)模:2400m3/d，停留時間:3.3h，尺寸:5.3m×9.7m×6.0mH
主要設備:提升泵，2臺(1+1)，Q=120m3/h，H=20m。
pH中和池
1、玻璃鋼材料，停留時間30分鐘，尺寸:4.9m×2.3m×5mH。
pH中和池
1個座位，玻璃鋼材料，停留時間15分鐘，尺寸:2.0m×2.3m×5mH。
pH中和池
31個座位，玻璃鋼材料，停留時間15分鐘，尺寸2.0m×2.3m×5mH。
3.2含氟廢水系統(tǒng)
3.2.1含氟調(diào)節(jié)罐
座位1，設計規(guī)模:720m3/d，停留時間:3.6h，尺寸:2.1m×9.7m×6.0mH
主要設備:2臺提升泵(1+1)，Q=40m3/h，H=20m。
3.2.2含氟反應罐
座1，玻璃鋼材質(zhì)，停留時間:15min，尺寸:1.5m×1.5m×5mH調(diào)節(jié)進水pH，同時加入CaCl2，與水中氟離子反應。
主要設備:槳式攪拌機1臺，轉速80轉/分。
3.2.3含氟混凝池
座1，玻璃鋼材料，停留時間15分鐘，尺寸:1.5m×1.5m×5mH，加入PAC進行混凝。主要設備:槳式攪拌機1臺，轉速80轉/分。
3.2.4含氟絮凝池
座1，玻璃鋼材質(zhì)，停留時間:15min，尺寸:1.5m×1.5m×5mH加入PAM使水中大分子凝聚，加速沉淀。
主要設備:1臺框式攪拌機，轉速為30轉/分。
3.2.5含氟吸附罐(活性氧化鋁)
大小:& # 248；2.8米×2.5米.如果氟離子超標，將廢水切換到吸附池進行吸附處理。
3.3研磨廢水系統(tǒng)
研磨調(diào)節(jié)槽
座1，設計規(guī)模:2320m3/d，停留時間:3.3h，尺寸:5.6m×9.7m×6.0mH主要設備:提升泵，2臺(1+1)，Q=110m3/h，H=20m。
3.3.2研磨反應槽
座位1，玻璃鋼材質(zhì)，停留時間18分鐘，尺寸:2.4m×2.8m×5mH。調(diào)節(jié)進水pH，同時投加PAC進行混凝沉淀。主要設備:槳式攪拌機，數(shù)量為1臺，轉速為80轉/分。
3.3.3研磨絮凝池
座位1，玻璃鋼材質(zhì)，停留時間18分鐘，尺寸:2.4m×2.8m×5mH。加入PAM，混凝沉淀。主要設備:框式攪拌機1臺，轉速40轉/分。
3.3.4研磨初沉池
座1，設計規(guī)模:3040m3/d，停留時間:2.3h，尺寸:13.5m×4.6m×5mH廢水進入沉淀池沉淀，上清液進入生化池。主要設備:污泥泵，2臺(1+1)，2英寸。
3.4生化系統(tǒng)
水解池
A區(qū)/B2，停留時間:4.9h，尺寸:4.55m×8.8m×5.0mH，酸化大分子有機物，提高廢水的可生化性。
3.4.2接觸氧化池
A座/B2，停留時間:12小時，尺寸:長19.0米×寬4.55米×高6.5米。游泳池的通風。
3.4.3二沉池
A區(qū)/B2，停留時間:6.7h，大小:16.8m×4.5m×5mH沉淀生化污泥。上清液進入排放罐。主要設備:污泥泵，3臺(2+1)，2英寸。將污泥送至污泥儲槽。
3.4.4排放池
座位1，停留時間:0.5h，尺寸:5.3m×6.3m×5mH收集排出的廢水，測量水中污染物指標，達標排放。主要設備:排放回流泵，2臺(1+1)，Q=230m3/h，H=20m。
3.5污泥系統(tǒng)
污泥儲槽
1個座位，尺寸:11.0米×4.6米×5小時。污泥被收集并送至壓濾機進行干燥。主要設備:污泥壓濾機泵，2臺(1+1)，2英寸。
3.5.2污泥脫水系統(tǒng)
干污泥量為750kg/d，污泥含水率為98%，經(jīng)板框壓濾后含水率達到70%。污泥上清液回流至調(diào)節(jié)池進行再處理。
主要設備:板框隔膜壓濾機，過濾面積120m2，過濾壓力0.8MPa，濾板材質(zhì):增強聚丙烯。
4.運營效果和成本
4.1運行效果
2017年5月工程調(diào)試驗收后，連續(xù)運行期間工程水質(zhì)穩(wěn)定，各項指標達到設計排放標準和驗收標準。
4.2運營費用
連續(xù)運行時，電費為0.83元/m3，藥劑費為1.74元/m3。由于自動化程度高，人工成本約為0.30元/m3，整體運行成本約為2.87元/m3。
5.結論
5.1本項目水量大(設計水量達到5000m3/d)，廢水種類多，在半導體電子行業(yè)廢水中具有代表性。廢水分類處理能有效提高處理效率，保證出水水質(zhì)。
5.2整個系統(tǒng)由PLC程序控制，自動化程度高，節(jié)省人工費用和運行費用2.87元/噸水。(來源:江蘇中電創(chuàng)新環(huán)境科技有限公司)
免責聲明：本網(wǎng)站內(nèi)容來源網(wǎng)絡，轉載是出于傳遞更多信息之目的，并不意味贊成其觀點或證實其內(nèi)容真實性。轉載稿涉及版權等問題，請立即聯(lián)系網(wǎng)站編輯，我們會予以更改或刪除相關文章，保證您的權利。
標簽: 半導體廢水處理工藝